烘箱是一種用于加熱或干燥物品的設備。其工作原理是利用能量（通常是電力或燃氣）將空氣加熱到一定溫度，然后將加熱后的空氣通過風扇或其他方式送入烘箱內部。

首先將物料或材料放入烘箱的艙內,然后設定好烘箱的溫度和時間,然后烘箱會自動進行烘干。烘箱的烘干過程是首先將外部的新鮮空氣引入烘箱,經過初、中、高三效過濾,凈化后的空氣更有益于對產品的保質。

然后經蒸汽熱交換器,使空氣升溫至一定溫度,然后使其與物料直接接觸,在送風的過程中,艙內的擋風板會不停的調節方向,使得熱風的與物料接觸,送到艙內的各個角落,達到均衡受熱。 可設定溫度、測定溫度。金華噪音小真空烘箱規格尺寸

鼓風烘箱的維護和保養：

（1）上下班用軟布把烤箱表面擦干凈，保持烤箱表面清潔，防止表層脫漆影響外觀。

（2）烤箱內應經常擦拭，以免腐蝕性物質粘附在內膽上，影響烤箱使用壽命。

（3）烘烤之溫度絕不能超過本機之規定溫度。

（4）不可將風道和風孔堵死，以保證正常送風風道。

（5）在烘烤過程中聽到聲音異常應立即停止工作，檢查馬達及風葉輪，以免燒壞馬達。

（6）高溫烘烤物品后，不能立即關掉總開關，應打開風扇開關讓熱量散發出去后方可關機，以免烤箱局部受熱變形。 蘇州加熱功率比例可調真空烘箱進口數顯壓力表，真空控制精度高，穩定性高。

    為獲得平坦而均勻的光刻膠涂層并使光刻膠與晶片之間有良好的黏附性，通常在涂膠前對晶片進行預處理。預處理第一步常是脫水烘烤，在真空或干燥氮氣的機臺中，以150～200℃烘烤。工藝目的是除去晶片表面吸附的水分，在此溫度下，晶片表面大約保留了一個單分子層的水。涂膠后，晶片須經過一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時間越短或溫度越低會使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高，但對比度會有降低。實際上軟烘工藝需要通過優化對比度而保持可接受感光度的試湊法用實驗確定，典型的軟烘溫度是90～100℃，時間從用熱板的30秒到用烘箱的30分鐘。在晶片顯影后，為了后面的高能工藝，如離子注入和等離子體刻蝕，也須對晶片進行高溫烘烤，稱之后烘或硬烘。這一工藝目的在于：減少駐波效應；激發化學增強光刻膠PAG產生的酸與光刻膠上的保護基團發生反應并移除基團使之能溶解于顯影液。

烘箱優勢：

1、耐用性較強：由于電熱器被密封在箱體內，與外界空氣接觸面小，因此不易被氧化腐蝕。

2、內熱循環：烘烤物件受熱均勻。

3、電氣控制安全精確可靠：結構合理，有效工作面積大，功能全，操作簡單，維修調整方便，噪音小，可靠性高，成本低，能耗少，生產效率高。

工作原理：空氣循環系統采用雙電機水平循環送風方式，風循環均勻高效。風源由循環送風電機（采用無觸點開關）帶動風輪（Φ230）經由電熱器，而將熱風送出，再經由風道至烘箱內室，再將使用后的空氣吸入風道成為風源再度循環，加熱使用。確保室內溫度均勻性。當因開關門動作引起溫度值發生擺動，可介此送風循環系統迅速恢復操作狀態溫度值。 儲存、加熱、試驗和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環境里進行，所以不會氧化。

真空烘箱的主要功能包括烘干、消毒、熱處理和熱熔各種物品，以及進行一些特殊的實驗。它適用于對熱敏性物料和含有溶劑及需回收溶劑物料的干燥，能在較低溫度下得到較高的干燥速率，熱量利用充分。具體來說，真空烘箱利用真空泵進行抽氣抽濕，使工作室內形成真空狀態，降低水的沸點，加快干燥的速度。這種設計使得真空烘箱特別適用于干燥熱敏性、易分解和易氧化物質，同時能夠向內部充入惰性氣體，特別是一些成分復雜的物品也能進行快速干燥。此外，真空烘箱還配備有微電腦溫度控制器，可以精確控制溫度，箱體閉合松緊能調節，整體成型的硅橡膠門封圈能確保箱內高真空度。真空泵要停止使用時，先關閉閘閥、壓力表，然后停止電機。上海加熱功率比例可調真空烘箱定制

真空箱不需連續抽氣使用時，應先關閉真空閥，再關閉真空泵電源。金華噪音小真空烘箱規格尺寸

真空烘箱與普通烘箱在以下方面存在差異：

1.工作原理：真空烘箱通過抽取工作室內的空氣，形成負壓環境，然后利用加熱和蒸發的方式將樣品中的水分蒸發出來。而普通烘箱則是通過加熱和對流的方式，將工作室內的空氣溫度升高，使樣品中的水分蒸發。

2.烘干效率：真空烘箱中的壓力較低，水分的蒸發速度較快，因此通常比普通烘箱的干燥速度更快。

3.溫度控制：真空烘箱的控溫精度和穩定性通常高于普通烘箱。

4.應用領域：真空烘箱常用于對空氣敏感的樣品進行干燥，例如化學試劑、生物樣品等。而普通烘箱適用于對一般樣品的干燥，如食品、藥品、電子產品等。綜上所述，真空烘箱和普通烘箱的主要區別在于工作原理、烘干效率、溫度控制和應用領域。

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